一种固有各向异性表面润湿模式的封闭蚀刻策略

小英说半导体

各向异性功能图形表面在微流体、生物医学和光电子学等领域得到了重要的应用。然而，表面图案在很大程度上依赖于高端设备和昂贵的模具/掩模和光阻剂。聚合物的分解行为在材料科学中得到了广泛的研究，但由于产生的化学和物理结构变化很少被认为是润湿性操作的机会。在这里，我们报告了一种简单和快速的无掩模蚀刻方法，通过控制材料表面的有限分解来精确的表面图案化（图1）。通过一种通用的打印技术和随后的位置限制化学蚀刻，制作了分辨率为200 μm的内在、复杂和准确的图案（如QR码）。特别地，建立了用于信息存储和加密的蚀刻处理窗口。按照设计的模式/信息可以隐藏在胶片中，但在暴露于外部刺激（例如，水/水分）后读取。由于金属导体在可湿模式中的选择性生长，也可以制造具有所需风格的柔性电子产品。这种无掩模和简单的方法在从各种聚合物材料中大量生产精确的功能模式方面显示出了巨大的潜力。